服务信息
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最大可装载直径200mm的晶圆片，可以直接刻蚀包括硅、硅化物、III-V族化合物半导体、电介质和金属等材料
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反应离子刻蚀机主要是结合化学气相反应与等离子体刻蚀的方法，用于刻蚀硅、二氧化硅、聚苯乙烯、二氧化钛等材料，普遍用于晶体硅光伏电池的陷光绒面、半导体器件以及纳米电子材料等领域的研究
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刻蚀包括硅、硅化物、III-V族化合物半导体、电介质和金属等材料
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提前一周预约；遵守校内共享管理制度规定；
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100元/小时
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