1、具有扩展端口，日后可以与表面分析系统（例如俄歇光谱仪，磁传输测量系统）结合使用，以对样品进行原位测量和分析；2、系统具有一个成膜腔（304不锈钢腔体）He-检查泄漏率≤ 10-13 torr l/s；3、成膜室各配置6个2英寸靶枪，每个溅射靶枪都配有挡板和水冷；随附一个2英寸金溅射靶（纯度4N，厚度3 mm）；随附一个2英寸Ru溅射靶（纯度5N，厚度3 mm）；(选项：更大尺寸如3英寸, 4英寸， 6英寸和更多支)，可用于磁性和非磁性材料的溅射；4、成膜腔体真空度优于8×10-9 torr；主泵：涡轮分子泵，抽速400 (l/s)(N2)；极限压力≤10-10 torr；粗抽泵：旋片泵；5、配置1台1.0 kW DC电源及1台0.5 kW RF电源，使用可编程开关切换溅射源；6、成膜腔室6英寸基板加热温度最高可达600℃（选项：更高温度, 1000℃），配置有旋转基板台型电极(最大转速30 rpm）；7、样品交换室：8英寸304不锈钢腔体，10英寸安装法兰口， CF10英寸quick access door快速通道门；8、涡轮分子泵，抽速80 (l/s) (N2)；极限压力≤10

1、自动控制功能：抽气和排气, 多层膜沉积；2、超高真空磁耦合旋转/线性运输功能；

镀膜

1)收费标准中仅为机时费，我方不负责检测或制作样品成败之责。需根据样品具体特性和要求面议! 2)时间计算:从样品装载及开机准备起算，至少收取一小时费用，其后以半小时为单位计价，未满半小时以半小时计价。3）按小时收费。4）限纳米级薄膜

校外：800元/小时；校内：600元/小时；院内：500元/小时