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高真空磁控溅射镀膜机

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  • 仪器分类:工艺实验设备 -> 电子工艺实验设备 -> 电路板制造工艺实验设备
    • 型号:HVSP-06
    • 厂商:C&K Scientific and Technological Instruments 公司
  • 所在地区:河南省郑州市中原区
  • 服务次数:0

服务信息

"1、系统具有一个成膜室(304不锈钢腔体)He-检查泄漏率10-12 torr l/s; 除快速门(quick access door)外,所有端口均为CF端口;2、成膜室各配置6个φ4英寸靶枪(2个非磁性材料溅射靶枪, 4个磁性材料溅射靶枪),每个溅射靶枪都配有气动挡板和水冷;3、成膜腔体真空度8×10-8 torr;主泵: 涡轮分子泵, 抽速700 (l/s)(N2); 极限压力10-10 torr;粗抽泵: 旋片泵;4、配置一套全系列真空计和控制器显示屏 (大气压~10-9 torr);5、配置1台DC电源(1.5 kW)及1台RF电源(0.6 kW), 使用可编程开关切换溅射源;6、成膜腔室6英寸基板加热温度最高可达600 ℃, 配置有旋转基板台型电极(最大转速30rpm);
"
1、自动控制功能:抽气和排气, 多层膜沉积
镀膜
1)收费标准中仅为机时费,我方不负责检测或制作样品成败之责。需根据样品具体特性和要求面议! 2)时间计算:从样品装载及开机准备起算,至少收取一小时费用,其后以半小时为单位计价,未满半小时以半小时计价。3)按小时收费。4)限数十纳米级以上厚膜
校外:800元/小时;校内:600元/小时;院内:500元/小时

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服务次数:38
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服务态度:5
服务质量:5
服务效率:5
综合评价:5

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