服务信息
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两个离子源电压100eV~6.0KV连续可调
束流密度最高可达10 mA/cm2,连续可调
减薄入射角-10° ~+ 10°
样品台旋转0° ~ 360° -
具有双侧和低角度研磨的功能;
通过对离子束的调整可提供单面及双面研磨;合并装置无须冷冻镜台--CCD即时影象系统(选配);CAIBE大大改进了对半导体材料的研磨厚度. -
适用於TEM样品前处使用:表层全方位高速研磨
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周一到周五
提前预约 -
协商收费
联系方式
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