磁控溅射镀膜机由无油真空系统、溅射系统、气体压强控制装置、气体流量控制装置以及烘烤旋转系统等组成。可满足样品尺寸为φ50m，多片（4片以上）。同时镀制要求可满足三靶共溅射要求。

主要用于镀制多层金属及金属化合物薄膜。
可实现多层膜溅射、掺杂溅射以及镀膜时间可控制。

磁控溅射就是利用电磁场来控制真空腔体内气体异常辉光放电中离子、电子的运动轨迹以及分布状况的溅射镀膜工艺。可制备装饰薄膜、硬质薄膜、耐腐蚀摩擦薄膜、超导薄膜、磁性薄膜、光学薄膜，以及各种具有特殊功能的薄膜，是一种十分有效的薄膜沉积方法。
由于其成膜的均匀性、致密度、纯度、附着力都非常好，并可以在低温、低损伤的条件下实现高速沉积各种材料薄膜，已经成为当今真空镀膜中一种成熟技术与工业化的生产方式。在科学

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