1. 工作条件：
电源：适于实验室供电系统， 380-400VAC（±10％），50Hz, 三相五线制，温度：20-25℃，相对湿度：<70%。
2. 主要技术参数：
*2.1设备主腔体采用双腔（真空腔+反应腔）热壁反应腔室设计。真空腔体外壁无需水冷即可保持温度低于60摄氏度（确保人体接触安全）。
2.2 通过真空腔内的加热部件同时对衬底与反应腔体壁辐照加热，衬底与反应腔各部位均可被加热至450℃，反应腔体及衬底温度均可检测，温控精度满足±1℃以内。不能只对反应腔内壁进行局部加热，防止因腔壁处受热不均产生二次反应及污染。
2.3 反应腔体可以用来沉积8英寸（200毫米）的衬底，兼容8英寸以下的衬底。
2.4 反应腔体及真空腔体的密封盖通过气力升降机自动开关。

可以实现低温甚至常温薄膜沉积，特别适合于对温度敏感材料和柔性材料上的薄膜沉积。

1.对于部分金属氧化物的沉积；
2.对于部分金属氮化物的沉积；
3.对于部分零价金属沉积。

如有需要，提前联系管理员。

1200.00元/样品