1、系统极限压强6.6×10-5Pa，（不加热烘和冷阱）溅射沉积薄膜前本底压强5×-4Pa
2、主源轰击直径Ф80mm，辅源轰击直径Ф120mm
3、离子能量可调范围：主源1500eV；辅源1000eV聚束状态能量：主源1200eV；辅源1000eV
4、束流范围：主源Jb150mA；辅源Jb200mA
5、样品工作台：120mm，加热温度400℃，
6、装靶数：4靶（带水冷），靶尺寸Ф100mm
7、装片量：单炉Ф50.8mm三片
8、工作台面自转速率：15RPM；扫描速率：1mm/s
9、薄膜厚度均匀度：Ф50mm直径范围RSM值≤±5%
10、离子能量和束流稳定度RMS值＜±1%每小时，
11、离子源电源总体可靠性≥97%，MTBF≥2年；束流有追踪，带485通信接口可实现自动控制。

用离子源发出离子,经引出、加速、聚焦,使其成为束状,用此离子束轰击置于高真空的靶,将溅射出的原子进行镀膜。IBS (离子束溅射)镀膜光学元件能帮助需求严苛的激光光学应用实现可能达到的最高性能。这些光学元件上的薄膜具有密集、无孔且均勺的镀膜层,因此具有无漂移且对温度不敏感的性能。镀后光学元件几乎没有表面缺陷,因此镀膜在处理光线时可能产生的吸收和散射最低。

溅射靶材到样品基底上，沉积成膜。 可沉积介质和金属膜，用于光学滤波器、X射线反射镜、同步辐射镜等。

需预约后使用

200元/小时