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高真空等离子体增强化学气象薄膜沉积系统

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  • 仪器分类:工艺实验设备 -> 电子工艺实验设备 -> 电真空器件工艺实验设备
    • 型号:创世微纳PECVD-601
    • 厂商:北京创世威纳科技有限公司
  • 所在地区:河南省洛阳市洛龙区
  • 服务次数:0

服务信息

样片数量及尺寸:1片Ф6英寸
沉积腔体:高真空系统
沉积不均匀性:±3%-±6%
沉积速率:20-600nm/min(视具体材料与工艺)
工作台:可升降,高度可调
加热:常规加热,可选高温加热
薄膜沉积
沉积材料,包括并不限于硅基(Si)薄膜、碳基(C)薄膜、硅锗合金(SiGe)、钨硅合金(WSi2)、W、SiC。
提前预约
300元/小时

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服务次数:1
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