溅射室极限真空度：≤6.6x10-5Pa(经烘烤除气后)
系统真空检漏漏率：≤5.0x10-7Pa.l/S
系统从大气开始抽气：溅射室45分钟可达到6.6x10-4 Pa
系统停泵关机12小时后真空度：≤5Pa
旋转基片台： 基片尺寸和数量：2英寸样品一次放置1片，小片样品可放多个；基片公转由调速电机驱动，5—10转/分连续可调，转动速度
样品台可加热（室温-600度）
靶材：靶材尺寸：Φ60；珀金、钛 ；靶在上，向下溅射，具有单独溅射、轮流溅射、共溅射功能

利用磁控溅射技术，在磁场作用下，使电子在靶材表面附近做螺旋运动，增加电子与气体分子的碰撞几率，从而产生高密度等离子体。等离子体中的正离子在电场作用下加速轰击靶材，使靶材原子溅射出来，并在基片表面沉积形成薄膜。通过精确控制溅射参数，如溅射功率、气体流量、沉积时间等，实现对纳米团簇磁性薄膜的成分、结构和性能的调控。

磁性存储材料：用于制备高性能的磁性存储介质，如硬盘驱动器中的磁记录薄膜，提高存储密度和数据读写性能。
自旋电子学器件：制备用于自旋电子学领域的纳米团簇磁性薄膜，如自旋阀、磁性隧道结等器件，为开发新型高速、低功耗电子器件提供材料基础。
传感器领域：可制备磁性传感器敏感薄膜，用于检测磁场、应力、温度等物理量，在生物医学检测、环境监测、工业自动化等领域有广泛应用前景。

周一至周五（工作日），上午9：00-11：00，下午3：00-5：00

100元/时