1. 离子源种类：液态Ga离子源；

2. 交叉点分辨率：优于或等于4.0 nm@30 kV；

3. 束流强度：1pA-100 nA；

4. 离子源寿命：≥1000小时；

5. 电子枪类型：肖特基（ZrO/W）场发射灯丝；

6. 最佳距离分辨率：0.6 nm@15 kV；0.9 nm@1 kV

7. 束交叉点分辨率：0.6 nm@15 kV；1.5 nm@1 kV

8. 束交叉点工作距离：4 mm；

9. 束流强度：176 nA；

SEM,EDS,EBSD,FIB

扫描电镜（SEM）广泛地应用于金属材料和非金属材料等检验和研究。在材料科学、金属材料、陶瓷材料半导体材料、化学材料等领域，进行材料的微观形貌、组织、成分分析。各种材料的形貌组织观察，材料断口分析和失效分析，材料实时微区成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面扫描和线扫描分布测量，晶体/晶粒的相鉴定，晶粒尺寸、形状分析，晶体、晶粒取向测量。

1. 粉末样品要求：样品量需要提供大概10 mg；

2. 液体样品要求：样品量≥300 ul，溶剂和溶液不能发生反应，溶液务必能干燥，不易干燥的溶液需要说明干燥条件，请根据样品成分选择对应的基底；；

3. 块体/薄膜样品要求：长宽≤1 cm，厚度≤1 cm，样品质量不超过200 g；

4. 需要脆断的样品要求：尺寸需要≥2×2 cm，厚度＜0.5cm，较厚的样品建议尺寸准备大些；

5. 易分解样品需明确分解条件（如温度等），若样品极易分解可能不能安排测试，因为分解后产生物质可能对测试仪器造成影响；

6. 导电性差（如半导体金属氧化物、生物样品及塑料、陶瓷等）或强磁样品建议选择喷金，不喷金可能会影响拍摄效果；

7. 要求样品无毒、无放射性、干燥无污染、热稳定性好、耐电子束轰击；

8. 其它测试条件及样品可咨询本实验中心。

9.送样前提前联系测试老师。

SEM:350元/小时;
EBSD：800元/h
FIB：2000元/h