1.支撑机架：采用一体式机架，控制部分与真空室集成在一起，可整体移动，采用优质进口铝型材搭建。
2.样品台标准的样品盘可以容纳16个15 mm x 15mm的蒸镀基片。可真空条件下更换掩膜，样品盘附近通循环水冷却；
3.蒸发源：共8组蒸发源，8组蒸发源可兼容蒸镀金属和有机材料；源与源之间配有防止交叉污染的防污板
4.膜厚控制系统：采用石英晶振膜厚仪在线测量膜厚，可以实时测量蒸发的速度和厚度；
5.蒸发腔体：腔本由SUS304制作，其内部尺寸约为380*380*530mm；腔体为方形，有前后二个可完全打开的门，一个为滑动式开启，用于连接手套箱，一个为旋转开启或滑动式开启，用于维护清理
6.蒸镀真空系统1★极限真空优于：4*10-5Pa；2★主泵抽速不低于700L/S；3★前级泵抽速不低于30立方米每小时；4气动高真空插板阀，通径大于等于150mm；
7.手套箱系统★热蒸镀腔体与手套箱系统相结合，可从低真空处通向真空室和单站惰性环境工作空间。单柱气体净化系统；可以将湿度和氧气保持在< 1ppm，箱体泄漏率：<0.001vol%/h；

1.蒸发源配备1套低电压大电流的TDK电源，通过大电流直流继电器来切换蒸发源，实现不同材料的蒸发
2.可蒸金属：以Ag为标准，可蒸有机：以C60为标准
3.实现自动化镀膜，晶振系数tooling值随着晶振寿命消耗可自动化调整

1.蒸发源配备1套低电压大电流的TDK电源，通过大电流直流继电器来切换蒸发源，实现不同材料的蒸发
2.可蒸金属：以Ag为标准，可蒸有机：以C60为标准
3.实现自动化镀膜，晶振系数tooling值随着晶振寿命消耗可自动化调整

提前三天预约，遵守校内科研管理规定

1.蒸镀器件样品：50元/样
2.手套箱操作：100元/小时