热蒸发镀膜仪是一种利用热蒸发原理进行镀膜的设备。其基本原理是利用加热蒸发物质，使其原子或分子从固态直接升华成气态，并沉积在基片表面形成薄膜。热蒸发镀膜仪的主要组成部件包括蒸发源、基片、真空系统和控制系统等。其中，蒸发源是热蒸发镀膜仪的核心部件，它可以加热并蒸发目标材料产生原子或分子蒸气。基片是镀膜的目标物体，可以是各种材质的表面，如金属、半导体、塑料等。热蒸发镀膜仪具有简单、高效、成膜质量好等优点，可在各种尺寸和形状的基底上沉积Ti、Al、Au、Cr、Ag等金属材料，在电子信息、纳米科技、材料科学等多个领域有着广泛的应用。

1.真空度3E-5 Pa
2.共8 组蒸发源，可兼容蒸发舟（钨、钼，钽舟）和螺旋丝，可蒸镀金属和有机材料
3.可以安装4寸基片，并向下兼容各种尺寸和形状
4.可蒸发材料：金属材料(Ti、Au、Al、Ag、Cr等)
5.最高升温温度可达1500℃，电流驱动加热形式，可精确到0.1Å，实现蒸镀速率0.01Å/S的精度显示

可在各种尺寸和形状的基底上沉积Ti、Al、Au、Cr、Ag等金属薄膜。

衬底为干净固体，非易挥发分解等衬底材料

600元/小时，自带靶材、耗材。