具体技术指标如下：
（1）系统控制平台：
（1.1）基于window 10 系统的全自动控制平台，需具备手动和自动两种操作模式。（1.2）频率范围：1 到6.1 MHz；频率精度：0.05Hz。（1.3）镀膜过程可实现从抽真空开始到镀膜工艺结束全自动化操作，期间包括蒸发源切换、温度控制等。可自动控制预蒸镀时间，功率，以及在镀膜速率上可实现完全自动控制。基片挡板、蒸发源挡板可自动打开关闭。（1.4）速度精度：0.01Angstrom/s；膜厚精度：0.1Angstrom。膜厚均匀性：<±5% @ 150*150mm。
（2）高真空镀膜系统及腔室，数量各1 件：
（2.1）方形主腔室内部尺寸不少于：500*500*600mm（宽*深*高），容积：不少于150L。（2.2）电控柜集成于镀膜腔室下方，整体尺寸不超过1000*900*1000mm（长*宽*高）。
（3）镀膜系统配备的真空系统1 套：
（3.1）高真空测量系统，含PIRANI 和PENNING 两种检测方式，测量范围：大气压到5 x10-9mbar。（3.2）前级泵：涡旋干泵，抽速不少于：11.4 m3/h。

此高真空镀膜系统可解决以下具体器件制备面临的难题：①高精度膜厚控制。此高真空金属/有机材料镀膜系统须在10-7mbar 的压力环境下进行精细的速率调控，进而达到1 纳米级别的膜厚控制。这对制备高性能有机/钙钛矿光伏器件中的活性层，功能传输层，以及电极层至关重要。②多种类蒸发源。此设备同时配备不同材质的蒸发源，操作人员可根据蒸镀材料的性质和具体的升华温度来选择相应的热蒸发源，以此来保证蒸镀过程中工艺参数的稳定以及确保蒸发源不受损坏。更重要的是此设备还可以实现多源共蒸，从而制备有机异质结光电器件。③多功能样品台，具备加热功能。

通过热蒸发来制备金属、有机材料薄膜与器件

样品尺寸25*25mm，具体可蒸镀的材料类型需与管理员提前沟通。

校内收费：500元/样；校外收费：1000元/样