1.离子源：配置两支或以上配有稀土磁铁的潘宁离子枪，无耗材。

2.离子枪抛光角度：最低0°，最高18°,每支离子枪可独立调节。

3.离子束能量：最低100 eV，最高8.0 keV，离子束流密度：10 mA/cm2峰值。

4.样品大小：最大直径32mm，最大高度15mm；

5.液氮冷台：配置液氮冷台，样品最低温度-120°C。

6.抛光及镀膜功能：具有平面抛光、截面抛光及溅射镀膜三种功能。

7.靶材切换：无需破坏真空，可直接切换。

对于金属材料样品，可在同一真空环境下完成抛光及镀膜.具有平面抛光、截面抛光及溅射镀膜三种功能。

提供离子束平面抛光服务，去除样品表面损伤层获得高质量表面；截面抛光制备服务，用于观察涂层截面、界面结合及多层膜结构；离子束溅射镀膜服务，为不导电样品镀制金、铂、碳等导电膜层；配备液氮冷台的冷冻截面制备服务，适用于热敏感材料如聚合物、生物样品的低温抛光；支持电子背散射衍射（EBSD）样品制备，提供高质量晶体学分析样品。

样品需清洁干燥，最大直径32mm，高度不超过15mm，脆性样品需提前加固；常规提供金、铂、碳等靶材，特殊靶材需提前沟通自备；根据材料硬度和目标效果，抛光时间通常为30分钟至数小时不等；需使用液氮冷台时请提前说明并预留充足准备时间；操作过程中严禁打开真空腔室，镀膜完成后需等待真空恢复至安全范围方可取样；常规靶材由实验室提供，特殊实验需求产生的额外耗材费用需另行结算；使用环境温度-10℃-35℃，湿度<80%，无腐蚀性气体、油雾、灰尘、电磁干扰及震动场所。

700元/小时