欢迎访问河南省科技创新券信息管理平台

技术指标 超高分辨率成像镀膜仪的主要技术指标包括：真空度（优于10⁻⁵ Pa，采用分子泵系统）；镀膜速率（0.1–10 nm/s可调）；膜厚控制精度（优于±0.1 nm，配备石英晶振监测）；样品台（可旋转倾斜，最大直径≥100 mm）；溅射靶材（支持金、铂、碳、铬等多种金属）；膜层均匀性（≤5%）；适用于高分辨SEM/TEM样品导电膜制备。
主要功能 在高真空环境下通过溅射或热蒸发方式，在样品表面沉积纳米级厚度（精度优于±0.1 nm）的金、铂、碳等导电膜。支持倾斜旋转镀膜，确保复杂形貌样品膜层均匀致密，有效消除荷电效应，提升高分辨SEM/TEM成像的衬度与分辨率。
服务内容 为SEM/TEM样品提供金、铂、碳等纳米级导电膜镀膜服务，膜厚精度优于±0.1 nm。支持倾斜旋转镀膜，确保复杂形貌样品覆盖均匀。可协助用户选择靶材与膜厚参数，提供膜厚监测报告，以及设备操作培训与日常维护支持。
用户须知 样品须干燥、无挥发性，避免污染腔体。镀膜前确认靶材正确、晶振片清洁。设定膜厚与速率时勿超额定范围。镀膜过程保持真空，请勿频繁开门。取出样品后及时清理腔壁残留，定期校准膜厚监测系统。操作人员需经培训，遵守真空操作规程。
参考收费标准 咨询仪器管理员。