主要规格及技术指标：1.电子光学系统 1.1电子枪类型：肖特基场发射电子枪 1.2点分辨率：≤0.23nm@200kV； 1.3线分辨率：≤0.10nm@200kV；0.14nm@80kV； 1.4背散射电子分辨率：≤1.0nm@200kV； 1.5 STEM BF/DF分辨率：≤0.16nm@200kV；≤0.31nm@80kV； 2.能谱仪系统 2.1探测器类型：≥100mm2电制冷型，无需液氮； 2.2能量分辨率： ≤136 eV； 2.3元素分析范围：4Be至92U 2.4具有定性和定量分析功能，带有点、线、面分布分析软件；

主要用于材料的高分辨形貌观察和微区的晶体结构分析，系统有电子光学系统、高压系统、真空系统等部分组成。可以在极短时间内得到高分辨率的图像观察和成分分析，结合高灵敏度的能谱仪可以实现快速的成分分析。

（1）形貌分析：可获得样品的形貌、粒径、分散性等相关信息； （2）结构分析：对样品进行纳米尺度的微分析，如：高分辨晶格条纹像等； （3）成分分析：可对样品进行能谱点测、线扫、面扫，获得样品中的元素在一个点、一条线、一个面的分布情况。

备注：1.透射电镜不能做磁性样品，样品中不得含有铁（Fe）、钴(Co)、镍(Ni)等磁性元素。 2.对于粉末和液体样品，要求样品均匀分散在支持碳膜上并且干燥。 3.易潮解的样品，请提前真空干燥处理。 4.高分辨样品要求厚度在10nm以下。

800元/时