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深刻机(DRIE)

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  • 仪器分类:工艺实验设备 -> 电子工艺实验设备 -> 半导体集成电路工艺实验设备
    • 型号:omega LPX ICP-SR
    • 厂商:SPTS Technologies limited
  • 所在地区:河南省郑州市中原区
  • 服务次数:0

服务信息

1、4英寸晶圆
2、刻硅:Si、Ti、Pt等多种材料
3、EBS电压及He冷背压
4、刻蚀速率:0.01~3.5um/min
5、侧壁角度:90°+-1°
目标材料上面等离子体刻蚀深槽,主要应用于MEMS
MEMS的刻蚀
待修,暂时不对外开放。
1000元/时

联系方式

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服务次数:37
历史访问:501
服务态度:5
服务质量:5
服务效率:5
综合评价:5

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