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分子束外延系统

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  • 仪器分类:工艺实验设备 -> 电子工艺实验设备 -> 电真空器件工艺实验设备
    • 型号:Lesker
    • 厂商:KurJ.Lesker
  • 所在地区:河南省郑州市中原区
  • 服务次数:0

服务信息

超高真空沉积腔体,本底真空优于10-9mbar。
可集成多种薄膜制备和表面分析设备,如磁控溅射源、离子源、STM、XPS等。
可以通过软件编写工艺流程,系统自动执行,可实现多层膜的自动化生长。
提供激光分子束外延系统原位监测的RHEED的电子枪通常需要工作在较高的真空环境下(小于10-6mbar),但LMBE系统在成膜过程中往往需要较高的工艺压力,我们的LMBE采用的是STAIB公司生产的差分抽气RHEED,系统的最高工作气压可达100Pa。
激光分子束外延系统(LMBE)是在传统的分子束外延(MBE)和脉冲激光沉积系统(PLD)的基础上发展而来的,PLD与提供原位监测的反射高能电子衍射仪(RHEED)相结合,使得系统能够实现类似于MBE的,单原子层精度的薄膜生长。相比于MBE的热蒸发,它是使用脉冲激光的高能量使材料蒸发甚至电离,因此被称作Laser MBE(激光分子束外延系统)。LMBE属于高端薄膜制备设备,适用于生长各种纳米尺度的单层膜或多层膜。
集成多种薄膜制备和表面分析设备,如磁控溅射源、离子源、STM、XPS等。
为避免交叉污染,只能做当时系统正在使用的气源和前驱体。需提前1个月申请。
2000元/炉。

联系方式

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服务态度:5
服务质量:5
服务效率:5
综合评价:5

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