高精度紫外光刻机
收藏- 仪器分类：工艺实验设备 -> 电子工艺实验设备 -> 半导体集成电路工艺实验设备
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- 型号：SUSS MICROTEC MJB4
- 厂商：SUSSMICROTEC LITHOGRAPHY DMBH公司
- 所在地区：河南省郑州市高新区
- 服务次数：0
服务信息
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4英寸晶圆曝光
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该型号光刻机创新采用三柔性支点实现高精度自动调平曝光、复位实现自动化控制；采用专利技术积木错位蝇眼透镜实现高均匀照明；可连续设定分离间隙；采用双目双视场显微镜实现高对准精度。
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该型号光刻机创新采用三柔性支点实现高精度自动调平曝光、复位实现自动化控制；采用专利技术积木错位蝇眼透镜实现高均匀照明；可连续设定分离间隙；采用双目双视场显微镜实现高对准精度。
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院内100元/样品，校内200元/样品，校外400元/样品
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