服务信息
-
真空室极限真空≤6.6×10-6Pa；
溅射沉积薄膜前本底压强≤5×10-4Pa；
薄膜厚度均匀度：Ф200mm；
直径范围RSM值≤±5%、Ф150mm直径范围RSM值≤±3%；
样品台：自转带公转，转速0~30RPM可调；
靶枪：带水冷，可旋转，最多可装4个靶材并能够自动切换。 -
本设备为实验室自研设备，配备有双射频离子源、可见至近红外光控，能够实现相对自由的靶材溅射沉积功能。
-
本设备服务内容为制备微纳米级的光学多层薄膜，包括红外截止滤光片、分色滤光片、高反射膜、减反射膜、长波通膜、短波通膜等。
-
网上预约申请并电话沟通，申请时详细说明工艺参数。
-
1200/小时
联系方式
登录用户才能看到联络人信息和联络方式，请登录
预约
