服务信息
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样品台尺寸：4/6/8英寸，兼容小尺寸； 基片加热温度：室温~400℃
前驱体源路数：标准2路液态前驱体管路,1路固态前驱体管路
前驱体管路温度：室温～200℃，控制精度±1℃
源瓶加热温度：室温～200℃，控制精度±1℃ -
原子层沉积是通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应器并在沉积基体上化学吸附并反应而形成沉积膜的一种方法。当前驱体达到沉积基体表面，它们会在其表面化学吸附并发生表面反应。
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Ha、La、Ti、Al基氧化物薄膜的制备
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用户向实验室管理人员提出书面申请，并说明制备薄膜的成分、厚度及工艺参数。实验室接收申请邮箱：tangzhenjie2002@163.com。
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300元/机时
联系方式
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