服务信息
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μMLA配置Raster Scan曝光模块;光源为UV LED 365nm光源波长;输出功率9W;光源寿命10000小时
3.2 μMLA配置Vector Scan曝光模块,光源同时配置;Diode Laser (405nm)源波长;UV Diode Laser (375nm)源波长;405nm输出功率120mW;375nm输出功率70mW;光源寿命10000小时 -
μMLA设备主要通过无掩模光刻的方式在铬片掩膜版(MASK)、陶瓷基片以及硅片上进行无掩膜曝光,以便在光刻胶表面生成尺寸精确的特征图形。
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光刻机
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禁止以下任何样品:含有粉尘、挥发性物质、腐蚀性化学品、生物活性、油污性。
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面议
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